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3、光刻胶去除是光刻工艺必备环节光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶,就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

需要指出的是,霍泰林模型中,彼此竞争的是传统的企业,他们面对的只有一个市场。如果将其中的主角改成平台,那么故事就要复杂一些,因为它们的业务不仅仅是把商品或服务卖给某类消费者,而是要对几类消费者的交易进行撮合、连接。此时,它们的“差异化”或“个性化”也不再是体现在商品质量上,而是体现在连接方法的不同上。尽管如此,霍泰林模型的基本结论依然是不变的。

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报道称,这份调查报告的机密版本将列出美国军备供应链面临的各项风险,而公开版本将会建议如何维持美国国防工业的健康、安全和适应能力。另据美国《外交政策》双月刊网站10月2日报道,在有关研究公布之前,消息人士告诉本刊记者,由总统特朗普下令、国防部领导的一项评估认为,中国政府正在故意利用它对某些重要自然资源的垄断来削弱美国国防工业的基础。

最新数据显示,金融危机爆发10年后,美国房价又回到高位。但美国全国房地产经纪商协会近日公布的报告显示,2017年4月至2018年3月,美国面向国际买家的房屋销量同比下降21%。美国目前的政策环境影响外资投资,这使得外国买家趋于谨慎。责任编辑:孙文轩

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